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汎銓專精材料分析 建置先進TEM設備
新聞發生日期:2014-09-03 | 相關公司:汎銓科技 |
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汎銓科技全新引進 FEI OSIRIS TEM設備,大幅提升EDS(Energy-dispersive X-ray spectroscopy能量分散分析光譜)分析能力,提供更高品質的 ZC(atomic number contrast)影像。 汎銓專精於材料分析及IC電路修補,近年在各種先進分析設備的投資額皆以億元計,顯示出資本與技術密集的行業特性。汎銓的所有投資均經縝密的規劃,包括因應市場發展的提前布局及各項先進設備投入的時間點,以配合客戶需求為前提,不同於一般製造業的「稼動率」觀念。汎銓肯投資,在最短時間內完成客戶交付的任務,追求效率與堅持品質,取得客戶的信任委案,進而創造業績及獲利。 材料分析主管周學良表示,半導體製程研發腳步演進微縮至20/16/10nm,元件尺寸不斷變小,電晶體從平面式轉變到3D,使得TEM 試片製備難度越來越高。汎銓不斷提升TEM試片製備能力及強化TEM 成份(元素)分析能力,具備15奈米以下TEM試片厚度製備能力,滿足先進製程開發需求。 汎銓為目前國內業界唯一同時擁有日系及歐美系TEM 設備的專業分析服務公司,更全面服務來滿足客戶。工程人員的穩定度與經驗領先同業,機台也最先進,「以最好的技術、設備及服務來滿足客戶需求」的經營定位,獲得客戶信賴。<擷錄經濟> |
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