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汎銓TEM設備 晶圓檢測利器
新聞發生日期:2014-10-28 | 相關公司:汎銓科技 |
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晶圓代工大廠預告明年仍將維持高資本支出,材料分析及IC電路修補專業廠汎銓科技,在設備投資上亦密切跟上客戶需求的腳步,今年引進FEI OSIRIS TEM設備,與市場零時差,提供更高端的分析服務給客戶。 FEI OSIRIS TEM大幅提升能量分散分析光譜(EDS;Energy-Dispersive X-ray spectroscopy)分析能力,提供更高品質的ZC(atomic number contrast)影像。半導體製程微縮至20/16/10nm,元件不斷變小,電晶體從平面式轉變到3D,TEM試片製備的也難度越來越高。汎銓持續提升TEM試片製備能力及強化TEM成份分析能力,滿足先進製程開發需求。 FEI OSIRIS TEM配備四個對稱的EDS SDD(Silicon drift detectors)偵測器,有更低的元素偵測極限、更佳的mapping & linescan空間解析度,與更好mapping的訊噪比;提供更穩定的元素半定量分析,成為先進製程客戶在ZC影像及成份分析功能最佳的TEM分析平台。 汎銓是國內唯一同時擁有日系及歐美系TEM設備的專業分析服務公司,取得全面性服務的優勢。其工程人員穩定度與經驗累積也領先同業,堅持以最好的技術、設備及服務來滿足客戶需求,獲得客戶信賴。(翁永全)<擷錄經濟>
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